真空等离子清洗机处理掩膜的主要目的是去除掩膜表面的污染物，如颗粒、油脂、有机物残留等，以确保掩膜的准确性和稳定性。这些污染物可能会对掩膜的性能产生负面影响，因此通过清洗处理可以提高掩膜的质量和可靠性，从而保证半导体制造过程的顺利进行和产品的高品质。

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