在半导体制造中，掩膜（也称为光罩、光掩膜）起到非常关键的作用。掩膜是一种具有特定图案的透明材料，主要用于将图案传输到半导体晶圆上。具体来说，掩膜位于晶圆和光线之间，光线通过掩膜上的图案照射到晶圆上，从而将图案转移到晶圆上。

掩膜的主要作用体现在以下几个方面：

1. 控制光刻过程：在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术。掩膜作为光刻过程中的“底片”，能够精确地控制光线照射到晶圆上的区域，从而控制晶圆上被蚀刻或沉积的区域。

2. 传输电路图案：在EDA（Electronic Design Automation）工具中，设计师可以使用计算机辅助设计软件创建电路图案，然后将这些图案传输到掩膜上。掩膜作为电路图案的载体，能够将设计师的意图准确地传递到晶圆上。

3. 提高制造精度：由于掩膜具有高精度、高分辨率的图案，因此能够确保晶圆上的电路图案具有非常高的精度和一致性。这有助于提高半导体器件的性能和可靠性。

4. 实现多层电路设计：在复杂的半导体器件中，往往需要实现多层电路设计。掩膜技术能够确保每一层电路图案都能够精确地传输到晶圆上，并且各层之间能够准确地对齐和连接。

总之，掩膜在半导体制造中起到至关重要的作用，是确保半导体器件性能和可靠性的关键因素之一。