在现代半导体制造工艺中，黄光CELL工艺扮演着至关重要的角色。而在这一工艺中，等离子清洗机以其独特的优势，发挥着不可替代的作用。

黄光CELL工艺是半导体制造中的一个关键环节，它涉及到对芯片表面的精细处理，以确保后续工艺的顺利进行。在这个过程中，表面的清洁度、粘附性以及化学活性等因素，都对最终产品的性能有着至关重要的影响。而等离子清洗机，正是通过利用等离子体中的活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而实现对材料表面的清洁、活化、刻蚀等处理，满足黄光CELL工艺对表面处理的严苛要求。

等离子清洗机在黄光CELL中的主要应用之一是表面清洁。在半导体制造过程中，芯片表面往往会残留各种污染物，如颗粒、油脂、有机物等。这些污染物不仅会影响后续工艺的精度和稳定性，还可能导致芯片性能的下降。而等离子清洗机能够高效去除这些污染物，确保芯片表面的清洁度，为后续的工艺步骤打下坚实的基础。

除了表面清洁外，等离子清洗机还能对芯片表面进行活化处理。在黄光CELL工艺中，芯片表面需要具有一定的粘附性，以便与后续的材料或工艺步骤形成良好的结合。而等离子清洗机通过激发等离子体中的活性粒子，使其与芯片表面发生化学反应，从而提高表面的化学活性，增强粘附性。这一应用对于提高芯片的可靠性和稳定性具有重要意义。

此外，等离子清洗机在黄光CELL工艺中还具有刻蚀作用。在某些情况下，需要对芯片表面的特定区域进行精细的刻蚀处理，以满足工艺要求。而等离子清洗机通过精确控制等离子体的能量和分布，可以实现对芯片表面的局部刻蚀，达到预期的工艺效果。