真空等离子设备采用PLC 触摸屏控制系统，精确的控制设备运行。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能。真空等离子设备中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。
真空等离子设备中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。
真空等离子设备的处理温度可以低至80℃、50℃以下，低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。真空等离子设备本身是很环保的设备，不产生任何污染，处理过程也不产生任何污染。真空等离子设备清洗的处理效果非常均匀稳定，常规样品处理后较长时间内保持效果良好。
真空等离子设备主要适用于各种材料的表面改性处理：表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面接枝、表面沉积、表面聚合以及等离子体辅助化学气相沉积。真空等离子设备主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
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